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表面科学与薄膜技术基础


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表面科学与薄膜技术基础
  • 书号：9787030731289
    作者：张永平
  • 外文书名：
  • 装帧：平装
    开本：B5
  • 页数：184
    字数：240000
    语种：zh-Hans
  • 出版社：科学出版社
    出版时间：2022-10-01
  • 所属分类：
  • 定价： ￥98.00元
    售价： ￥77.42元
  • 图书介质:
    纸质书

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现代半导体技术和先进材料研发的进步，促进薄膜材料和制备技术快速发展，要求薄膜制备技术和薄膜结构有精细控制，需要了解表面与薄膜方面的基本物理知识。本书着重介绍表面与薄膜相关的基本概念、基本原理，帮助理解掌握薄膜技术的基本知识，为工作和科研打下良好基础。本书内容包括真空物理基础、表面科学基础、薄膜物理基础、薄膜生长技术、薄膜结构、表面和薄膜分析技术，以及几种常见的薄膜材料。
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    前言
    第1章　真空物理基础　1
    1.1　真空基础知识　1
    1.2　气体动力学理论　3
    1.3　真空获得　10
    1.4　真空测量　19
    1.5　真空系统　25
    1.6　本章小结　26
    习题　27
    参考文献　28
    第2章　表面科学基础　29
    2.1　表面和体材料　29
    2.2　表面重构　33
    2.3　表面结构缺陷　37
    2.4　表面张力和表面能　40
    2.5　表面吸附　43
    2.6　表面电子结构　49
    2.7　本章小结　52
    习题　52
    参考文献　52
    第3章　薄膜物理基础　53
    3.1　薄膜生长模式　53
    3.2　形核的热力学模型　55
    3.3　形核和生长的动力学过程　61
    3.4　团簇的聚结与耗尽　62
    3.5　形核与生长的实验研究　65
    3.6　本章小结　68
    习题　69
    参考文献　69
    第4章　热蒸发沉积　70
    4.1　蒸发的物理化学特性　70
    4.2　薄膜厚度均匀性和纯度　76
    4.3　热蒸发硬件　82
    4.4　热蒸发技术的应用　85
    4.5　本章小结　87
    习题　88
    参考文献　88
    第5章　溅射镀膜　89
    5.1　等离子体和汤森放电　90
    5.2　等离子体中的反应　94
    5.3　溅射物理　98
    5.4　溅射沉积薄膜过程　103
    5.5　本章小结　108
    习题　108
    参考文献　108
    第6章　化学气相沉积　109
    6.1　反应类型　110
    6.2　CVD热力学　113
    6.3　气体输运　114
    6.4　热CVD工艺　118
    6.5　等离子体CVD工艺　120
    6.6　激光CVD工艺　122
    6.7　金属有机CVD工艺　123
    6.8　本章小结　124
    习题　124
    参考文献　125
    第7章　薄膜结构　126
    7.1　薄膜结构演化　126
    7.2　热蒸发沉积薄膜结构和形貌　129
    7.3　溅射镀膜薄膜结构和形貌　133
    7.4　CVD薄膜结构和形貌　136
    7.5　本章小结　137
    习题　138
    参考文献　138
    第8章　现代表面分析技术　139
    8.1　X射线光电子能谱　139
    8.2　紫外光电子能谱　149
    8.3　X射线衍射和低能电子衍射　152
    8.4　扫描隧道显微镜和原子力显微镜　156
    8.5　振动谱　159
    8.6　本章小结　164
    习题　164
    参考文献　165
    第9章　薄膜材料　166
    9.1　金刚石薄膜　166
    9.2　超硬薄膜　173
    9.3　半导体薄膜　178
    9.4　磁性存储薄膜　181
    习题　184
    参考文献　184
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