本书是作者多年来从事薄膜光学与薄膜技术课程教学研究成果的总结。全书共分三篇13章：第一篇分为4章，讲述薄膜光学基本理论，内容包括各向同性均匀和非均匀、各向异性均匀和非均匀、吸收和导电层状介质薄膜反射和透射特性计算；第二篇分为6章，分类讲述增透膜、高反射膜、带通滤光片、截止滤光片、带阻滤光片和分光镜的膜系构成、特性描述及其应用；第三篇分为3章，比较全面地介绍了物理气相沉积、化学气相沉积和液相沉积薄膜制备方法原理、光学薄膜检测技术，以及一些金属薄膜、半导体薄膜和介质薄膜制备实例。鉴于薄膜光学与薄膜技术的飞速发展，本书在取材的深度和广度上充分考虑到现代前沿科学领域的知识内容。
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目录
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第一篇 尊旗光学灰本理论
第1章 薄膜光学的电磁理论基础 1
1.1 麦克斯韦方程 1
1.2 平面电磁波 6
1.2.1 复矢量波动方程-齐次矢量亥姆霍兹方程 6
1.2.2 理想介质中的平面波解 7
1.2.3 吸收介质中的平面波解8
1.3 平均电磁能流密度——光强 9
1.4 电磁波谱、光谱 10
习题 12
参考文献 12
第2章 平面光波在两介质分界平面上的反射与透射 14
2.1 各向同性理想介质界面的反射与透射 14
2.1.1 S波反射与透射 14
2.1.2 P波反射与透射 16
2.2 各向同性吸收介质界面的反射与透射 18
2.2.1 S波反射与透射 18
2.2.2 P波反射与透射 20
2.3 非均匀介质界面的反射与透射 21
2.3.1 几何光学近似条件下非均勻介质中的波传播 21
2.3.2 任意非均勻介质界面的反射系数方程 24
2.4 各向异性介质界面的反射与透射 30
2.4.1 平面对称各向异性介质中麦克斯韦方程的分量形式 31
2.4.2 平面对称各向异性介质界面的反射与透射 31
2.5 反射系数和透射系数随入射角的变化 36
2.5.1 全反射与倏逝波 36
2.5.2 全透射 37
2.5.3 反射系数、透射系数振幅和相位随入射角变化 38
2.6 反射率和透射率 39
2.6.1 理想介质分界面的反射率和透射率 40
2.6.2 吸收介质分界面的反射率和透射率 41
2.6.3 空气与金属导体表面的反射率 43
习题 44
参考文献 44
第3章 平面光波在平界面层状介质薄膜中的反射与透射 45
3.1 法向阻抗和光学有效导纳的概念 45
3.2 平面分界面单层均匀介质薄膜的
反射与透射 47
3.3 平面分界面多层均匀介质薄膜的反身寸与透身寸 53
3.3.1 平面分界面多层均匀介质薄膜反射系数和透射系数计算的矩阵方法 53
3.3.2 多层增透膜和高反射膜的基本构成特点 55
3.4 非均匀介质膜层的特征矩阵 61
3.4.1 一阶近似 62
3.4.2 二阶近似 63
3.5 各向异性介质薄膜的分层矩阵计算方法 64
3.5.1 各向异性介质中的矩阵波动方程 64
3.5.2 各向异性介质薄膜的矩阵波动方程 66
3.5.3 均匀各向异性介质薄膜矩阵波动方程的解 70
3.5.4 单轴各向异性介质薄膜的特征矩阵 72
3.5.5 非均匀各向异性介质薄膜矩阵波动方程的数值解 74
3.5.6 单层各向异性介质薄膜的反射与透射 75
习题 79
参考文献 79
第4章 膜系设计图示法 81
4.1 矢量法 81
4.2 导纳图解法 87
4.2.1 单一等效界面等反射率导纳圆图和等相位导纳圆图 87
4.2.2 单层膜系等折射率导纳圆图和等相位导纳圆图 89
4.2.3 多层膜系等折射率导纳圆图 92
4.3 金属膜导纳圆图 97
4.4 膜系层间电场分布 99
习题 100
参考文献 101
第二篇 光学尊應分类及启用
第5章 增透膜 102
5.1 表面反射对光学系统性能的影响 102
5.2 基底介质非相干叠加的透射率 104
5.3 透射滤光片组合透射率 106
5.4 均匀介质增透膜 107
5.4.1 单层均匀介质增透膜 107
5.4.2 多层均匀介质增透膜 108
5.5 非均匀介质增透膜 113
5.6 入射角变化对透射率的影响 115
5.7 增透膜应用实例——液晶显示增透膜 117
习题 118
参考文献 118
第6章 高反射膜 120
6.1 反射镜组合的反射率 120
6.2 周期多层膜系的反射率 121
6.2.1 周期多层膜系的特征矩阵 121
6.2.2 周期多层膜系的反射率和透射率 122
6.3 [HL]W类型的周期多层膜 123
6.4 |(0.5L)H(0.5L) |m类型的对称周期多层膜 126
6.5 周期多层膜构成的宽带高反射膜 128
6.6 中远红外区域的多层高反射膜 129
6.7 软X射线区域的多层高反射膜 131
6.8 金属反射镜 134
6.8.1 常用金属反射镜 134
6.8.2 金属-介质反射镜 136
6.9 影响反射特性的因素 137
6.10 髙反射镜应用实例 143
6.10.1 激光高反射镜 143
6.10.2 光刻机系统193nm高反射膜 144
6.10.3 DLP/LCoS投影薄膜——宽角度高反射镜 145
习题 146
参考文献 146
第7章 带通滤光片 149
7.1 带通滤光片的特性描述 149
7.2 带通滤光片的基本构型——法布里-珀罗干涉仪及其变形 150
7.3 法布里-珀罗干涉仪透射率计算 151
7.3.1 单层薄膜反射与透射计算的有效界面法 151
7.3.2 膜系透射定理 153
7.3.3 法布里-珀罗干涉仪的透射率计算 155
7.3.4 法布里-珀罗干涉仪透射特性分析 156
7.3.5 特殊带通滤光片信噪比的计算 164
7.4 窄带和中等带宽滤光片 164
7.4.1 法布里-珀罗干涉滤光片 164
7.4.2 窄带平顶多腔带通滤光片 172
7.4.3 诱导带通滤光片 174
7.5 超窄带带通滤光片 183
7.6 宽带带通滤光片 185
7.7 带通滤光片的角特性 186
7.8 极远紫外及软X射线区域带通滤光片 190
7.9 多通道窄带带通滤光片 192
习题 193
参考文献 193
第8章 截止滤光片 196
8.1 截止滤光片的特性描述 196
8.2 吸收型截止滤光片 197
8.3 干涉型截止滤光片 198
8.3.1 1/4波长周期膜系的透射特性 198
8.3.2周期对称膜系的光学等效导纳和等效相位 199
8.3.3 [(0.5H)L(0.5H)]和[(O·5L)H(0.5L)]类型对称膜系的光学等效导纳和等效相位 201
8.3.4 [(0.5H)L(0.5H)]OT和[(0.5L)H(0.5L)]OT类型周期对称膜系的透射率 203
8.3.5 透射带内波纹的压缩 208
8.3.6 截止带的展宽 210
8.3.7 透射带的展宽和压缩 212
8.4 金属-介质膜截止滤光片 218
8.5 热反射镜、冷反射镜和太阳能电池覆盖膜 218
习题 221
参考文献 221
第9章 带阻滤光片 223
9.1 带阻滤光片的特性描述 223
9.2 周期对称膜系构成的带阻滤光片 223
9.2.1 单个周期对称膜层的等效导纳和等效相位 224
9.2.2 多层膜透射率的不变特性 224
9.2.3 周期对称多层膜通带内波纹的压缩 227
9.2.4 四种介质周期对称膜系构成的带阻滤光片 230
9.3 非周期对称多层膜构成的带阻滤光片 231
9.4 正弦周期折射率带阻滤光片 232
9.4.1 正弦周期折射率带阻滤光片的基本构成特点 233
9.4.2 正弦周期折射率带阻滤光片设计的傅里叶变换方法 234
习题 241
参考文献 241
第10章 分光镜 243
10.1 中性分光镜 243
10.1.1 金属膜中性分光 244
10.1.2 介质膜中性分光 245
10.1.3 金属-介质膜中性分光 247
10.2 双色分光镜 249
10.3 偏振分光 254
10.3.1 偏振特性的描述 254
10.3.2 平板偏振分光镜 255
10.3.3 棱镜偏振分光 258
10.3.4 宽角宽带偏振分光 259
10.4 消偏振分光 262
10.4.1 偏振分离的描述 263
10.4.2 介质膜消偏振分光设计实例 267
10.4.3 金属-介质膜消偏振分光设计实例 271
10.4.4 其他消偏振分光设计方法 273
10.5 分光中的消色差问题 280
习题 281
参考文献 282
第三篇尊旗技术灰石出
第11章 薄膜制备技术 283
11.1 真空技术简介 283
11.1.1 真空的基本知识 283
11.1.2 真空的获得 284
11.1.3 真空的测量 286
11.2 薄膜制备方法——物理气相沉积 289
11.2.1 蒸镀法 289
11.2.2 溅射法 300
11.3 薄膜制备方法——化学气相沉积 306
11.3.1 化学气相沉积的原理 307
11.3.2 常压化学气相沉积 308
11.3.3 低压化学气相沉积 308
11.3.4 等离子体增强化学气相沉积 309
11.3.5 光化学气相沉积 310
11.3.6 金属有机化学气相沉积 311
10.3.7 原子层沉积 312
11.4 薄膜制备方法——液相沉积 313
11.4.1 化学镀 313
11.4.2 阳极氧化法 314
11.4.3 溶胶-凝胶法 314
11.4.4 电镀 315
11.4.5 LB膜制备技术 315
11.5 光刻蚀 316
11.5.1 光刻工艺 316
11.5.2 光刻胶 317
11.5.3 掩模 318
11.5.4 曝光 318
11.5.5 刻蚀方法 318
11.5.6 无掩模刻蚀 321
11.5.7 刻蚀图形及折射率 323
习题 323
参考文献 324
第12章 光学薄膜检测技术 326
12.1 光谱分析技术基础 326
12.1.1 光度计和光谱仪的基本构成 326
12.1.2 紫外-可见光分光光度计和傅里叶变换红外光谱仪 330
12.2 薄膜透射率和反射率测量 333
12.2.1 透射率测量 333
12.2.2 反射率测量 334
12.3 薄膜吸收和散射测量 338
12.3.1 吸收测量 338
12.3.2 散射测量 342
12.3.3 薄膜表面轮廓及粗糙度测量 344
12.4 光学薄膜常数测量 347
12.4.1 光度法 348
12.4.2 全反射衰减法 354
12.4.3 椭圆偏振法 357
12.5 光学薄膜激光损伤阈值检测 358
12.5.1 光学薄膜激光损伤机理 359
12.5.2 影响光学薄膜激光损伤阈值的因素 360
12.5.3 激光损伤阈值测量方法 362
12.5.4 提高光学薄膜损伤阈值的途径 366
12.6 薄膜微结构和化学成分检测 368
12.6.1 薄膜微结构 368
12.6.2 薄膜微结构检测 371
12.6.3 雕塑薄膜 372
12.6.4 薄膜化学成分检测 373
12.7 薄膜非光学特性测量 375
12.7.1 薄膜应力测量 375
12.7.2 薄膜附着力测量 383
12.7.3 薄膜硬度测量 388
12.7.4 薄膜密度和堆积密度测量 391
12.7.5 薄膜恒温、恒湿和液体侵蚀环境特性检测 394
习题 394
参考文献 395
第13章 光学薄膜材料 399
13.1 薄膜结晶形态几何描述 399
13.1.1 晶体结构的基本概念 399
13.1.2 晶体中的缺陷 402
13.1.3 单晶、多晶和非晶薄膜 405
13.2 金属薄膜 406
13.2.1 银膜（Ag) 406
13.2.2 铝膜（A1) 408
13.2.3 金膜(Au) 413
13.2.4 铬膜(Cr) 416
13.2.5 铂膜(Pt) 417
13.3 半导体薄膜 418
13.3.1 锗薄膜(Ge) 418
13.3.2 硅薄膜(Si) 423
13.3.3 氧化铟薄膜（ln203) 427
13.3.4 氧化锌薄膜(ZnO) 429
13.3.5 硫化锌薄膜(ZnS) 433
13.3.6 二氧化锡薄膜(Sn02) 436
13.4 介质薄膜 440
13.4.1 氟化镁薄膜（MgF2) 440
13.4.2 氧化铝薄膜(A1203) 441
13.4.3 氧化铅薄膜(PbO) 444
13.4.4 二氧化硅薄膜（Si02) 447
13.4.5 氧化钽薄膜(Ta205) 448
13.5 毒性薄膜材料 450
习题 450
参考文献 451
附录A 元素周期表 453
附录B 光学薄膜材料有用光谱范围 454
附录C 常见薄膜材料参数 455
京公网安备 11010102004214号