0去购物车结算
购物车中还没有商品，赶紧选购吧！
当前位置: 图书分类 > 物理 > 光学 > 光刻机像质检测技术（下册）

相同作者的商品

相同语种的商品

销售排行榜

光刻机像质检测技术（下册）


联系编辑
 
标题：
 
内容：
 
联系方式：
 
  
光刻机像质检测技术（下册）
  • 书号：9787030673558
    作者：王向朝等
  • 外文书名：
  • 装帧：圆脊精装
    开本：16
  • 页数：481
    字数：713000
    语种：zh-Hans
  • 出版社：科学出版社
    出版时间：2021-03-01
  • 所属分类：
  • 定价： ￥228.00元
    售价： ￥182.40元
  • 图书介质:
    纸质书

  • 购买数量： 件  缺货，请选择其他介质图书！
  • 商品总价：

相同系列
全选

内容介绍

样章试读

用户评论

全部咨询

光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。
样章试读
  • 暂时还没有任何用户评论
总计 0 个记录，共 1 页。 第一页 上一页 下一页 最末页

全部咨询(共0条问答)

  • 暂时还没有任何用户咨询内容
总计 0 个记录，共 1 页。 第一页 上一页 下一页 最末页
用户名： 匿名用户
E-mail：
咨询内容：

目录

  • 目录
    (下册)
    序言
    前言
    第7章 基于原位PMI的波像差检测 1
    7.1 Shack-Hartmann检测技术 1
    7.2 线衍射干涉检测技术 4
    7.3 Ronchi剪切干涉检测技术 5
    7.3.1 在光刻机中的应用 5
    7.3.2 干涉场的理论分析 6
    7.3.3 相位提取技术 16
    7.3.4 波前重建技术 28
    7.3.5 实验系统参数设计与实验结果 38
    7.4 多通道Ronchi剪切干涉检测技术 43
    7.4.1 稀疏采样法波前重建 44
    7.4.2 多通道检测系统设计 53
    参考文献 54
    第8章 偏振像差检测 57
    8.1 偏振像差对光刻成像质量的影响 57
    8.2 偏振像差表征方法 62
    8.2.1 偏振态及其变换的表征方法 62
    8.2.2 穆勒矩阵表征法 66
    8.2.3 琼斯矩阵表征法 69
    8.2.4 三阶琼斯矩阵表征法 79
    8.3 基于光刻胶曝光的检测技术 83
    8.3.1 SPIN-BLP技术 83
    8.3.2 基于相移掩模的检测技术 85
    8.4 基于椭偏测量的检测技术 87
    8.4.1 穆勒光瞳检测技术 87
    8.4.2 琼斯光瞳检测技术 110
    8.5 基于空间像测量的检测技术 130
    8.5.1 基于空间像位置偏移量的检测 130
    8.5.2 基于差分空间像主成分分析的检测 154
    参考文献 171
    第9章 极紫外光刻投影物镜波像差检测 174
    9.1 基于干涉测量的检测技术 174
    9.1.1 点衍射干涉检测 174
    9.1.2 剪切干涉检测 241
    9.1.3 Fizeau干涉检测 274
    9.2 基于Hartmann波前传感器的检测技术 276
    9.3 基于空间像测量的检测技术 277
    9.3.1 基于空间像匹配的检测技术 277
    9.3.2 基于波前局部曲率测量的检测技术 278
    9.4 基于Ptychography的检测技术 279
    9.4.1 基本原理 279
    9.4.2 相位恢复算法 281
    9.4.3 光场传播公式 288
    9.4.4 仿真与实验 292
    9.5 基于光刻胶曝光的检测技术 300
    参考文献 302
    第10章 像质检测关键依托技术 311
    10.1 工件台位置参数检测技术 311
    10.1.1 工件台基座表面形貌测量技术 311
    10.1.2 承片台不平度检测技术 314
    10.1.3 承片台方镜表面不平度检测技术 316
    10.1.4 工件台水平坐标系校正参数检测技术 321
    10.2 调焦调平传感技术 326
    10.2.1 狭缝投影位置传感技术 326
    10.2.2 光栅投影位置传感技术 341
    10.3 硅片对准技术 353
    10.3.1 自相干莫尔条纹对准技术 353
    10.3.2 基于标记结构优化的对准精度提升方法 360
    10.3.3 基于多通道对准信号的对准误差补偿技术 373
    10.4 照明参数检测与控制技术 376
    10.4.1 照明参数优化 376
    10.4.2 照明光瞳偏振参数检测技术 383
    10.4.3 照明均匀性控制技术 391
    10.4.4 曝光剂量控制技术 394
    10.5 光刻成像多参数优化技术 398
    10.5.1 光源优化技术 398
    10.5.2 掩模优化技术 406
    10.5.3 光源掩模联合优化技术 410
    10.5.4 光源掩模投影物镜联合优化技术 429
    10.5.5 光刻机多参数联合优化技术 435
    10.6 EUV光刻掩模衍射成像仿真技术 440
    10.6.1 无缺陷掩模衍射场仿真技术 440
    10.6.2 含缺陷掩模衍射场仿真技术 456
    参考文献 475
    后记 479
    (上册)
    第1章 绪论
    第2章 光刻成像模型
    第3章 初级像质参数检测
    第4章 基于光刻胶曝光的波像差检测
    第5章 基于空间像测量的波像差检测
    第6章 基于空间像主成分分析的波像差检测
帮助中心
公司简介
联系我们
常见问题
新手上路
发票制度
积分说明
购物指南
配送方式
配送时间及费用
配送查询说明
配送范围
快递查询
售后服务
退换货说明
退换货流程
投诉或建议
版权声明
经营资质
营业执照
出版社经营许可证

中国科技出版传媒股份有限公司　版权所有

　

京ICP备14028887号-5　 京ICP证150976号 京公网安备 11010102004214号

北京东黄城根北街16号 邮编：100717 Email:webmaster@mail.sciencep.com