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本书是国家级物理实验教学示范中心系列教材之一，是作者及其领导的教学团队在多年教学经验的基础上，结合教学改革的新成果编写而成。内容包括原子物理实验、核物理实验、激光和光学实验、微波和磁共振实验、磁学实验、半导体实验、真空镀膜技术、电子衍射和X 射线衍射、低温物理实验和铁电材料实验10个单元，共41个实验。添加了反映近年来物理学和实验技术发展的相关内容，尤其是对磁性材料、半导体材料、超导材料、铁电材料的制备方法和材料结构及性能表征技术实验进行了介绍。

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  前言
  第1章 原子物理实验 1
  1.1 氢原子光谱 1
  1.2 塞曼效应 8
  1.3 弗兰克赫兹实验 14
  1.4 密立根油滴实验 19
  第2章 核物理实验 25
  2.0 核物理实验基础知识 25
  2.1 核衰变的统计规律 31
  2.2 γ射线能谱测量 40
  第3章 激光和光学实验 48
  3.1 全息照相 48
  3.2 全息干涉计量 53
  3.3 彩虹全息 56
  3.4 晶体的电光效应及电光调制 60
  3.5 普朗克常量的光电效应法测定 68
  3.6 光电器件的光谱灵敏度 73
  3.7 椭偏法测薄膜厚度和折射率 79
  3.8 光拍频法测量光速 86
  第4章 微波和磁共振实验 92
  4.0 微波基础知识 92
  4.1 微波分光实验 103
  4.2 微波顺磁共振 109
  4.3 铁磁共振 116
  4.4 核磁共振 120
  4.5 脉冲核磁共振 129
  4.6 光泵磁共振 136
  第5章 磁学实验 146
  5.0 磁化率及磁性物质的分类 146
  5.1 弱磁性物质磁化率的测量 148
  5.2 法拉第效应实验 151
  5.3 磁畴的静态特性参数测量 156
  5.4 法拉第效应法观测磁晶各向异性 163
  5.5 庞磁电阻材料电阻率和磁电阻的温度特性测量 168
  5.6 溶胶凝胶法制备粉体材料 176
  第6章 半导体实验 180
  6.1 半导体霍尔系数与电导率的测量 180
  6.2 C-U法测量Si-SiO2界面态和半导体掺杂浓度 187
  6.3 用化学气相沉积法制备半导体薄膜 193
  第7章 真空镀膜技术 202
  7.1 真空的获得与测量 202
  7.2 真空镀膜 209
  7.3 射频溅射法制备Si-SiO2薄膜 214
  7.4 磁控溅射法制备磁性多层膜 223
  第8章 电子衍射和X射线衍射 226
  8.1 电子衍射 226
  8.2 晶体缺陷的研究 230
  8.3 X射线衍射技术 235
  8.4 扫描隧道显微镜 242
  第9章 低温物理实验 247
  9.1 超导材料的电磁特性 247
  9.2 高温超导单晶生长及表征 254
  第10章 铁电材料实验 262
  10.0 铁电材料基础知识 262
  10 1 铁电材料电滞回线的测量 263
  10.2 固相反应法制备铁电材料 267