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王阳元文集(第三辑)


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王阳元文集(第三辑)
  • 书号:9787030426420
    作者:王阳元
  • 外文书名:
  • 装帧:圆脊精装
    开本:B5
  • 页数:592
    字数:545
    语种:
  • 出版社:
    出版时间:2015-11-30
  • 所属分类:
  • 定价: ¥98.00元
    售价: ¥77.42元
  • 图书介质:
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本书选录了王阳元院士2005年至2012年间的代表性研究思想论述与学术著作,内容涉及科学与人生、战略研究、科学研究方法论及人才培养、前沿综述和学术论文等多个方面。这些论述和论文在国内外微电子学术界、教育界和工业界都产生了重要的影响,对我国微纳电子科学技术和产业的发展起到了积极推动作用。
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    科学与人生
    ■从教50年述怀 3
    ■理想是人生的甘露,奋斗是不老的诗情——谈科学与人生 6
    ■机遇?使命?创新?人生 32
    战 略 研 究
    ■信息技术是新的经济发展引擎 73
    ■进入“ 硅石时代”——21世纪集成电路产业与微电子科学技术的发展 77
    ■集成电路产业及其科学技术的发展面临着新的历史性突破 81
    ■十年磨一剑——集成电路产业历史回顾和发展规律探讨 96
    ■科技创新与机制创新推动社会跨越式发展 106
    ■关键在于营造有利于创新的机制和环境——对《国家中长期科学和技术发展规划纲要》中集成电路专项实施的讨论 109
    ■集成电路50年——发明?发展?面临新的突破和我们的历史机遇 112
    科学研究方法论及人才培养
    ■关于美国加州伯克莱大学学术活动情况和加强学术活动的几点建议131
    ■科技创新的社会条件和人才培养 134
    ■立足客观需求,着眼科学前沿,努力引领发展,培养高端人才——纪念我校微电子学科建设30年 137
    ■教育改革的探索与实践——庆祝北京大学软件与微电子学院成立十周年的讲话 154
    ■“心怀芯,天地宽”——在北京大学信息工程学院成立十周年庆典上的讲话 158
    前 沿 综 述
    ■SOI技术与三维立体集成电路 167
    ■展望九十年代世界高科技发展——微电子将是国际科技竞争的关键 199
    ■Challenges of Process Technology in 32nm Technology Node 200
    ■32nm及其以下技术节点CMOS技术中的新工艺及新结构器件 232
    ■The Neoindustrialization and Integrated Circuits Industry in the Mainland of China 247
    ■The driving force for development of IC and system in future: Reducing the power consumption and improving the ratio of performance to power consumption 281
    学 术 论 文
    一?器件与工艺
    ■新型SON器件的自加热效应 313
    ■Silicononnothing MOSFETs fabricated with hydrogen and helium coimplantation 321
    ■LaAlO3 as tunnel dielectric for lowvoltage and lowpower pchannel flash memory free of drain disturb 330
    ■Tradeoff between speed and static power dissipation of ultrathin body SOI MOSFETs 340
    ■A comparative study on analog/RF performance of UTB GOI and SOI devices 349
    ■The modulation of Schottky barrier height of NiSi/nSi Schottky diodes by silicide as diffusion source technique 363
    ■High breakdown AlGaN/GaN MOSHEMT with thermal oxidized Ni/Ti as gate insulator 370
    ■Topdown fabrication of vertical silicon nanorings based on Poisson diffraction 378
    ■Process optimization of plasma nitridation SiON for 65nm node gate dielectrics 378
    ■Schottky barrier impactionization metaloxidesemiconductor device with reduced operating voltage 397
    ■A TaOx based Threshold Switching Selector for the RRAM Crossbar Array Memory 404
    ■Experimental Study on the Variation of NBTI Degradation in Nanoscaled HighK/Metalgate PFETs 410
    ■Design of A 35GHz ultrawideband BiFET mixer using 0.35μm SiGe BiCMOS technology 417
    二?电路与系统
    ■A Programmable Spread Spectrum Clock Generation
    ■A LowVoltage Voltage Doubler without Body Effect
    ■A PhysicsBased EquivalentCircuit Model for OnChip Symmetric Transformers With Accurate Substrate Modeling 438
    ■A PVT Tolerant 10 to 500MHz AllDigital PhaseLocked Loop With Coupled TDC and DCO 458
    ■Highly PowerEfficient ActiveRC Filters With Wide BandwidthRange Using LowGain PushPull Opamps 472
    ■Characteristics of Gas Flow within a Micro Diffuser/Nozzle Pump 500
    ■A New Test Data Compression Scheme for Multiscan Designs 508
    ■A piezoresistive cantilever for lateral force detection fabricated by a monolithic postCMOS process 522
    ■An ESDAware 2.4GHz PA Design for WLAN Application 541
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