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流体辅助微纳抛光原理与技术


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流体辅助微纳抛光原理与技术
  • 书号：9787030405210
    作者：程灏波
  • 外文书名：
  • 装帧：平装
    开本：B5
  • 页数：246
    字数：317000
    语种：zh-Hans
  • 出版社：科学出版社
    出版时间：2014-07-01
  • 所属分类：TG 金属学与金属工艺 TG5 金属切削加工及机床
  • 定价： ￥98.00元
    售价： ￥77.42元
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本书详细阐述了适用于精密光学元件制造的流体辅助微纳抛光原理与技术，针对于每一种工艺方法进行了全方位的描述，涉及起源与发展、原理、优缺点、具体的加工设备以及相关的工艺。
　　全书分为9章，第1章对光学加工进行了综述，其他章节分别介绍了磁介质辅助加工技术、磁流变抛光技术、电流变抛光技术、气射流抛光技术、水射流抛光技术、磁射流抛光技术、浮法抛光技术、化学抛光。
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    序言
    第1章 绪论 1
    1.1 概述 1
    1.2 流体辅助抛光技术的分类 5
    1.3 流体辅助抛光技术的发展 8
    第2章 磁介质辅助加工 11
    2.1 磁场辅助抛光技术 11
    2.2 磁性液体抛光技术 11
    2.3 磁力研磨技术 12
    参考文献 22
    第3章 磁流变抛光 24
    3.1 概述 24
    3.2 磁学理论基础 27
    3.3 抛光系统与模型 31
    3.4 磁流变抛光液 55
    3.5 工艺研究 70
    3.6 小结 76
    参考文献 76
    第4章 电流变抛光 80
    4.1 概述 80
    4.2 电流变液体 82
    4.3 电流变抛光液 87
    4.4 电流变抛光模型 96
    4.5 装置设计与分析 101
    4.6 工艺研究 106
    4.7 小结 109
    参考文献 110
    第5章 气射流抛光 112
    5.1 概述 112
    5.2 基本原理 115
    5.3 加工机理与技术 124
    5.4 加工仿真与实验研究 134
    5.5 小结 144
    参考文献 145
    第6章 水射流抛光 146
    6.1 概述 146
    6.2 基本原理与特点 154
    6.3 理论模型 156
    6.4 工艺研究 166
    6.5 小结 177
    参考文献 178
    第7章 磁射流抛光 180
    7.1 概述 180
    7.2 流体动力学理论基础 182
    7.3 液柱保形机理 186
    7.4 去除函数模型与特性 189
    7.5 工艺研究 199
    7.6 加工装置 212
    7.7 小结 218
    参考文献 219
    第8章 浮法抛光 222
    8.1 概述 222
    8.2 机理与模型 224
    8.3 工艺研究 229
    8.4 小结 230
    参考文献 231
    第9章 化学抛光 233
    9.1 概述 233
    9.2 机理与原理 235
    9.3 加工设备 239
    9.4 小结 244
    参考文献 244
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